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                News

                新闻动态

                废气处理设备的分类

                点击次数:更新时间:2019-03-06 16:03:53【打印】

                吸收设备

                吸收法采用低挥发或不挥发性溶剂对VOCs进行吸收,再利用VOCs和吸收剂物理♀性质的差异进行分离。
                含VOCs的气体自吸收塔底部进入塔内,在上升过程中与来自塔顶的吸收剂逆流接触,净◥化后的气体由塔顶排出。吸收了VOCs的吸♀收剂通过热交换器后,进入汽提塔顶部,在温度高于吸收温度或压力低于吸收压力的条件下解吸∮。解吸后的吸收剂经过溶剂冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs气体经过冷ㄨ凝器、气液分离器后以∮较纯的VOCs气体离开汽提塔,被回收利用。该工艺适№合于VOCs浓度较高、温度较低的气体净化,其他情况下需要作相应的工艺调整。

                吸附设备

                在用多孔性⊙固体物质处理流体混合物时,流体中的某一组分或某些组分可←被吸表面并浓集其上,此现象称为吸附。吸附处理废气时』,吸附的对象是气态污染№物,气固吸附。被吸附的气体组分称为吸附质,多孔固体物质称为吸附@ 剂。
                固体表面吸附了吸附质∏后,一部被吸附的吸附质可从吸附剂▲表面脱离,此现附。而当吸附进行一段时间后,由于表面吸附▽质的浓集,使其吸附能力明显下降而吸附净化的要求,此时需要采用一定的措施使吸附剂上已吸附的≡吸附质脱附,以协的吸〓附能力,这个过程称为吸附剂的再生。因此在实际吸附工程中,正是利用▲吸附一再生一再吸附的循环过程,达到除去废气中污染物质并回收废气中有用组分。

                净化设备

                燃烧法用于处理高浓度Voc与有恶臭的化合物很有效,其原理↑是用过量的空气使这些杂质燃烧,大多数生成二氧化碳和水蒸气,可以排放到大气中。但当处理含氯和含硫的有机化合物时,燃烧生成产物中HCl或SO2,需要对燃烧后ξ 气体进一步处理。

                治理设备

                等离子体就是处⊙于电离状态的气体,其英文╱名称是plasma,它是由美国科学 muir,于1927年在研究低气压◆下汞蒸气中放电现象时〒命名的。等离子体由大量的子、中性原子、激︼发态原子、光子和自由基等组成,但电子⌒和正离子的电荷数必须体表现出电中性,这就是“等离子体”的含义。等离子体具有导电和受电磁影响的许√多方面与固体、液体和气体不同,因此又有人把它称为物质◢的第四种状态。根据状态、温度和离子密度,等离子体通常可以分为高温★等离子体和低温等离子体(包子体和冷等离子体)。其中高温等离子体的电∞离度接近1,各种粒子温度几乎相同系处于热力学平衡状态,它主要应用在受控热核反应研究方面。而低温等离子体则学非平衡状态,各种粒子温度并不相同。其中电子温度( Te)≥离子温度(Ti),可达104K以上,而Ψ其离子和中性粒子的温度却可低々到300~500K。一般气体放电子体属于低温等离子体。
                截至2013年,对低温等离子体的作用机理研究↘认为是粒子非弹性碰撞的结果。低温等离富含电子【、离子、自由基和激发态分子,其中高能电子与气体分子(原子)发生撞,将能量转换成基「态分子(原子)的内能,发生激发、离解和电离等一系列过秸处于活化状态。一方面打开了气体分子键,生成一些︼单分子和固体微粒;另一力生.OH、H2O2.等自由基和氧化性极强的O3,在这一过程中高能电子起决定性作用,离子的热运动只有副作用。常压下,气体放电∩产生的高度非平衡等离子体中电子温层氏度)远高于气体温度(室温100℃左右)。在非平衡等离子体中可能发生∞各种类型的化学反应,主要决定于电子的平均能量、电子密度、气体温度、有害气体分子浓度和≥气体成分。这为一些需要很大活化能的反ζ应如大气中难降解污染物的去除提供了另外也可以对低浓度、高流速、大风量的含挥发性→有机污染物和含硫类污染物等进行处理。
                常见的产生等离子体的方法是气体放电,所谓气体放电是指通过某种机制使一电子Ψ从气体原子或分子中电离出来,形成的气体媒质称为电离气体,如果电离气由外电场产生并形成传导电流,这种现象称为气体放电。根据放电产生的机理、气体的压j源性质以及电极的几何形状、气体放电等离子体主要分∑为以下几种形式:①辉光放电;③介质阻挡放电;④射频放电;⑤微波放电。无论哪一种形式产生的等离子体,都需要高压放电。容易打火产生◣危险。由于对诸如气态污染物的治理,一般要求在常压下进行。
                5、光催化和↓生物净化设备
                光催化是常温深度反应技术。光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物完全氧化成∞无毒无害的产物,而传统的高温焚烧技术则需要在极高的温度下才可将污染物摧毁,即使用常规的催化☉、氧化√方法亦需要几百度的高温。
                从◆理论上讲,只要半导体吸收的光能不小于其带隙能,就足以激发产生电※子和空穴,该半导体就有可能用作光催化剂。常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定■反应有突出优点,具体研究中可根据需要选用,如CdS半导体带隙能较小,跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易发生光腐★蚀,使用】寿命有限。相对而言,Ti02的综合性能较好,是最广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。

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